怎么選擇真空crf等離子設(shè)備氣路和品牌廠家：
一、真空crf等離子設(shè)備氣路的選擇
       常見的真空等離子體清洗機(jī)是兩個(gè)氣體通道，但這并不能滿足所有的處理需求。如果需要更多的反應(yīng)氣體，則應(yīng)適當(dāng)增加氣體通道，這也是根據(jù)客戶的實(shí)際需要選擇幾個(gè)氣體通道。
二、真空crf等離子設(shè)備選擇的品牌
       引進(jìn)的等離子清洗劑產(chǎn)品開發(fā)較早，產(chǎn)品比較成熟，但供貨周期長，售后維護(hù)服務(wù)不及時(shí)，產(chǎn)品更新?lián)Q代緩慢，在人性化設(shè)計(jì)、自動(dòng)化程度、應(yīng)用擴(kuò)展等方面沒有及時(shí)更新、升級(jí)，而且價(jià)格較高。我國真空等離子設(shè)備市場(chǎng)正處在快速發(fā)展階段，各廠家的產(chǎn)品質(zhì)量參差不齊，部分廠家缺乏基礎(chǔ)研究與應(yīng)用知識(shí)，品牌意識(shí)不強(qiáng)，售后服務(wù)不夠重視，一錘子買賣。

       crf等離子設(shè)備處理部件歸納起來有兩方面的作用——物理和化學(xué)。物理化學(xué)作用：利用多種活性劑，如等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等，使部件表面的原子或附著材料表面上的原子擊出，使其表面上的原子、原表面上的污漬和雜質(zhì)清除(除)表面原有的污漬和雜質(zhì)，與此同時(shí)會(huì)形成刻蝕效應(yīng)，使部件表面變“粗糙”，形成許多微細(xì)凹坑，從而使樣品表面出現(xiàn)凹痕。
       真空crf等離子設(shè)備在發(fā)展過程中，不斷結(jié)合客戶的實(shí)際需要開發(fā)出新的功能，從功能上來分真空等離子清洗機(jī)主要分為手動(dòng)版和自動(dòng)版，手動(dòng)版也叫基礎(chǔ)版，價(jià)格較為便宜，自動(dòng)版相對(duì)于手動(dòng)版功能上增加了設(shè)置清洗時(shí)間、自動(dòng)泄壓、微電腦控制、提供兩路進(jìn)氣（以便在清洗的時(shí)候通入氧氣，所以也有客戶把可以通入氧氣清洗的等離子清洗機(jī)稱為氧等離子清洗機(jī)），泄壓速度可以調(diào)節(jié)（適用于清洗石墨烯或者金屬氧化物粉末），泄壓時(shí)可以提供N2泄壓的接口等，建議客戶在預(yù)算充裕的情況下選擇自動(dòng)版本，后期的使用要方便很多。