低溫等離子表面技術(shù)，即非平衡等離子體技術(shù)，在外靜電場的影響下，導(dǎo)電介質(zhì)放電產(chǎn)生大量高能電子，高能電子與揮發(fā)性有機(jī)物發(fā)生一系列復(fù)雜的等離子物理化學(xué)反應(yīng)，使有機(jī)污染物降解成無毒、無污染的物質(zhì)。

       本文介紹了低溫等離子技術(shù)的基本原理、基本原理、基本原理、基本原理、基本原理和基本原理。電介質(zhì)阻擋放電是1種高氣壓非平衡放電過程。介電阻擋放電是產(chǎn)生等離子最方便、有效的技術(shù)手段。低溫等離子表面技術(shù)在處置揮發(fā)性有機(jī)物方面具有獨特的性能，在今后的研究中具有廣闊的應(yīng)用前景。在低溫等離子表面技術(shù)揮發(fā)性有機(jī)化合物中，反應(yīng)器的電源多為工頻電源。從提高處置效率的角度來看，能夠考慮選擇高頻電源。高頻高壓電源放電具有電壓峰值和頻率高的特點。與工頻相比，它占地面積小，去除率更高，能效更高，處置能力更大，將有利于其未來的工業(yè)適用。
等離子表面處理技術(shù)是1種干式處置技術(shù)，取代了傳統(tǒng)的濕法處置技術(shù)，具有以下五個優(yōu)點：
1.低溫等離子表面技術(shù)環(huán)保技術(shù):等離子影響過程為氣固相干反應(yīng)，不消耗水資源，不添加化學(xué)物質(zhì)。
2.低溫等離子表面技術(shù)效率高:整個過程能夠在短時間內(nèi)完成。
3.低溫等離子表面技術(shù)成本低:裝置簡單，易于操作和維護(hù)，少量氣體代替昂貴的清洗液，無廢液處置成本。
4.低溫等離子表面技術(shù)處置更加精細(xì):能夠深入微孔和凹陷的內(nèi)部，完成清潔任務(wù)。
5.低溫等離子表面技術(shù)適用比較廣泛:等離子表面處理技術(shù)能夠處置大部分固體物質(zhì)，因此適用比較廣泛。